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      2. Model 800E紫外掩膜光刻機

        價格
        電議

        型號
        Model 800E

        品牌
        OAI

        所在地
        暫無

        更新時間
        2023-01-25 16:44:46

        瀏覽次數(shù)

          一、美國OAI公司介紹:

          OAI是一家位于美國硅谷的*精密設備制造商,有著40多年的研發(fā)、制造經(jīng)驗。該公司生產(chǎn)的產(chǎn)品用于 MEMS、半導體、納米技術、微流體、MicroTAS、平板和光伏/太陽能行業(yè)。 并提供廣泛的經(jīng)過現(xiàn)場驗證的產(chǎn)品組合,包括:掩模對準器、UV 曝光系統(tǒng)、UV 光源、納米壓印模塊、晶圓鍵合機、UV 臭氧表面處理系統(tǒng)、邊緣珠曝光系統(tǒng)、晶圓分選機、太陽能模擬器 & IV 測試系統(tǒng)和眾多定制設計的解決方案。 這些產(chǎn)品有著良好的性能、高度的多功能性和*的可靠性,在全球的市場中贏得了客戶的青睞。


          二、Model 800E紫外掩膜光刻機產(chǎn)品特點:

          (1)多種光譜范圍可供選擇:汞燈:G(436nm)、H(405nm)、I(365nm)和310nm線,Hg-Xe燈:260nm和220nm。

          (2)適用基片尺寸范圍:4英寸~ 12英寸直徑晶圓片;

          (3)紫外燈功率范圍:200~2000W;

          (4)使用上下雙CCD Gigi相機和電動X-Y-Z-Theta平臺進行手動對準,帶操縱桿/配方操作。

          (5)通過 Cognex 軟件升級升級到 Auto Alignment。

          (6)自動楔補償和帶編碼器的電動z軸和3點調平升級選項;

          (7)紅外光學背面對齊選擇升級;

          (8)使用1TB電腦進行PC操作和配方存儲;

          (9)接近(20um):<3.0um,軟接觸:<2.0um,硬接觸:1um,真空接觸:≤0.6um。

          (10)提供0.5-1um的正反面曝光和對位精度。

          (11)可用于半自動化/研發(fā)和小批量生產(chǎn)模式。

          (12)適用于生物、MEMS、半導體、微流體、納米壓印和CLiPP工藝。

          Model 800E紫外掩膜光刻機

          三、OAI的Model 800E紫外掩膜光刻機與 Suss 的 Model MA6光刻機參數(shù)對比:

          Model 800E紫外掩膜光刻機


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