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      2. 美國NXQ紫外掩膜光刻機

        價格
        電議

        型號
        NXQ 4000系列

        品牌
        NXQ

        所在地
        暫無

        更新時間
        2023-01-25 16:39:20

        瀏覽次數(shù)

          一、美國NXQ紫外掩膜光刻機產(chǎn)品概述:

          NXQ MASK ALIGNER光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中,NXQ4000系列光刻機是以半自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)優(yōu)越的操作性,高的分辨率,均勻的光學(xué)系統(tǒng),穩(wěn)定的接近式和接觸式光刻及高的,使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被各地眾多*企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用。


          二、美國NXQ紫外掩膜光刻機技術(shù)參數(shù):

          1、芯片尺寸:5mm~150mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片(支持對不規(guī)則碎片的特殊卡盤設(shè)計);

          2、曝光波長:350nm-450nm(其它波長可選配);

          3、汞燈功率:350W/500W(其它功率可選配);

          4、分辨率:優(yōu)于0.5um;

          5、曝光模式:支持接近式曝光,各種接觸式(真空接觸、軟接觸、硬接觸等)曝光;

          6、出射光強范圍:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm;

          7、支持恒定光強或恒定功率模式;

          8、曝光時間:0.1~999.9s;

          9、對準(zhǔn)精度:雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監(jiān)視器,對準(zhǔn)精度可達到0.4微米內(nèi);

          10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器);

          11、光強均勻性Uniformity:

          <±1% over 2" 區(qū)域;

          <±2% over 4" 區(qū)域;

          <±3% over 6" 區(qū)域;

          12、雙面光刻:具備背面紅外對準(zhǔn)(IR BSA)和光學(xué)背面對準(zhǔn)(OBS BSA),雙面對準(zhǔn)精度≤2μm;

          13、電源:高靈敏度光強可控電源。

          14、可選型號:

          NXQ400-6  、NXQ400-8、NXQ800-6、NXQ8006 Sapphire、NXQ800-8 。


          三、產(chǎn)品特點:

          1、可選支持單面對準(zhǔn)和雙面對準(zhǔn)設(shè)計;

          2、高清晰彩色雙CCD鏡頭采用*的分裂視場顯微鏡鏡頭(基于無限遠修正的CCD鏡頭設(shè)計);

          3、雙頭高清全彩物鏡(單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇);

          4、高清彩色雙顯示屏;

          5、全新氣動軸承導(dǎo)軌設(shè)計,高*,低磨損,無需售后維護的;

          6、具有自動執(zhí)行楔形誤差補償,并在找平后自動定位功能;

          7、操作簡易,具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面;

          8、操控手柄調(diào)控模式的*設(shè)計;

          9、采用LED穿透物鏡照明技術(shù),具有*的對準(zhǔn)亮度;

          10、采用基于無限遠修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu);

          11、抗衍射反射的高效光學(xué)光路設(shè)計;

          12、帶安全保護功能的溫度和氣流傳感器;

          13、全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角:<1.84度;

          14、設(shè)備穩(wěn)定性,耐用性高;

          美國NXQ紫外掩膜光刻機

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