價(jià)格
電議
型號(hào)
WINETCH
品牌
PLUTOVAC
所在地
上海市 浦東新區(qū)
更新時(shí)間
2024-03-05 15:39:36
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產(chǎn)品特點(diǎn)：
4/6/8英寸兼容，單片晶圓真空傳輸系統(tǒng)
低成本高可靠，適合研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)
設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，外形小
操作簡(jiǎn)便、便于自動(dòng)控制、適合大面積基片刻蝕
優(yōu)異的刻蝕均勻性，刻蝕速率快
滿足半導(dǎo)體標(biāo)準(zhǔn)的配方驅(qū)動(dòng)及管理軟件控制系統(tǒng)
選擇比高、各向異性高、刻蝕損傷小
斷面輪廓可控性高，刻蝕表面平整光滑
技術(shù)參數(shù)：
晶圓尺寸：4/6/8英寸兼容
適用工藝：等離子體刻蝕
適用材料：SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy，etc.
適用領(lǐng)域：化合物半導(dǎo)體，MEMS、功率器件、科研等領(lǐng)域
其他推薦產(chǎn)品
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WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個(gè)多功能系統(tǒng)，它通過(guò)優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的配置方案，獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小，*的機(jī)械設(shè)計(jì)與優(yōu)化的自動(dòng)化操作軟件使該設(shè)備操作簡(jiǎn)便、安全，且工藝穩(wěn)定重復(fù)性很好。