PLUTO-M 等離子體材料表面處理系統(tǒng)

研究級(jí) 實(shí)驗(yàn)室用 多功能桌面型

經(jīng)過多年技術(shù)創(chuàng)新和積累，PLUTO-M創(chuàng)新性將真空式等離子體技術(shù)應(yīng)用于各種不同領(lǐng)域的研究型操作平臺(tái)，除了實(shí)現(xiàn)常規(guī)清潔樣品和表面改性的功能外，通過添加不同的功能模塊，可以實(shí)現(xiàn)等離子體鍍膜，等離子體合成反應(yīng)，等離子體純化等功能，極大的拓展該設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域。

典 型 應(yīng) 用

污染物清洗

清洗玻璃、金屬、陶瓷、塑料等材料表面的有機(jī)物及其他污染物

表面活化

利用等離子體轟擊樣品表面，改變樣品表面張力和活性

鍍膜

采用等離子斷鍵功能的裝置，將鍍膜材料以及納米級(jí)厚度均勻覆蓋樣品表面

等離子體刻蝕

對(duì)半導(dǎo)體材料、集成電路板、PCB板、塑料制品等材料進(jìn)行刻蝕

等離子體反應(yīng)

特別的工藝手段和裝置，可以實(shí)現(xiàn)等離子體與樣品的化學(xué)反應(yīng)，并得到相應(yīng)物質(zhì)

粉體處理

粉體裝置，可實(shí)現(xiàn)納米級(jí)顆粒的等離子體均勻處理，實(shí)現(xiàn)各項(xiàng)性能

控制等離子濃度和方向

通過轉(zhuǎn)換電極正負(fù)極和電極之間距，可控制等離子體濃度和反應(yīng)方向

加熱電極模塊

溫度可控，可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性

沉積鍍膜模塊，改變表面特性

沉積CF材料，樣品表面可以具有憎水的特性

沉積含苯材料，樣品表面起到絕緣防水的特性

沉積含有羥基的材料，提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果

化學(xué)反應(yīng)

氣體純化和使用等離子體與相關(guān)材料進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)

粉體處理裝置

用于處理微納米級(jí)別顆粒

感應(yīng)耦合模塊

感應(yīng)耦合等離子體裝置