等離子清洗機作為一種微觀固體表面的處理設設備,是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔等目的。
主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。
該系列等離子清洗機內(nèi)置高純石英倉體,采用了*的電極結(jié)構(gòu)設計和固態(tài)電源技術(shù),使其有效容積增大,不同真空 氣體環(huán)境下容易匹配,且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi),即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作,特別適用科學實驗 樣品清洗和教學。
設備型號
KT-Z2DQX
KT-S2DQX
KT-Z5DQX
供電電源
AC220V(AC110V可選)
工作電流
整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)
射頻電源功率
1000 W
150 W
300 W
射頻頻率
40 KHz
13.56 MHz
耦合方式
電容耦合
真空度
≤50 Pa
腔體材質(zhì)
高純石英
腔體容積
2L(內(nèi)徑110 mm×深度220 mm)
5L(內(nèi)徑160 mm×深度310 mm)
觀察窗內(nèi)徑
Φ50
Φ70
氣體流量
10—100 ml/min(其他量程可選)
過程控制
過程自動控制
過程手動控制
清洗時間
自動開關
開蓋方式
鉸鏈側(cè)開式法蘭
外形尺寸
150*500*250 mm
450*460*370 mm
530*580*420 mm
重量
20 kg
35 kg
40 kg
真空室溫度
小于65°C
冷卻方式
強制風冷
其他推薦產(chǎn)品
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等離子清洗機作為一種微觀固體表面的處理設設備,是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔等目的。
主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。
該系列等離子清洗機內(nèi)置高純石英倉體,采用了*的電極結(jié)構(gòu)設計和固態(tài)電源技術(shù),使其有效容積增大,不同真空 氣體環(huán)境下容易匹配,且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內(nèi),即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作,特別適用科學實驗 樣品清洗和教學。
設備型號
KT-Z2DQX
KT-S2DQX
KT-Z5DQX
供電電源
AC220V(AC110V可選)
工作電流
整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)
射頻電源功率
1000 W
150 W
300 W
射頻頻率
40 KHz
13.56 MHz
耦合方式
電容耦合
真空度
≤50 Pa
腔體材質(zhì)
高純石英
腔體容積
2L(內(nèi)徑110 mm×深度220 mm)
2L(內(nèi)徑110 mm×深度220 mm)
5L(內(nèi)徑160 mm×深度310 mm)
觀察窗內(nèi)徑
Φ50
Φ50
Φ70
氣體流量
10—100 ml/min(其他量程可選)
過程控制
過程自動控制
過程手動控制
過程自動控制
清洗時間
自動開關
開蓋方式
鉸鏈側(cè)開式法蘭
外形尺寸
150*500*250 mm
450*460*370 mm
530*580*420 mm
重量
20 kg
35 kg
40 kg
真空室溫度
小于65°C
冷卻方式
強制風冷