現(xiàn)代科學和材料工業(yè)的一大難題是如何實現(xiàn)在納米級別分辨率下對樣品進行無損的成分分析和鑒別。已有的一些高分辨成像技術(shù)，如電鏡或掃描探針顯微鏡等，在一定程度上可以解決該問題，但是這些技術(shù)本身的識別能力太低，無法滿足樣品成分分析的要求；另一方面，紅外光譜具有很高的材料成分分析能力，但是其空間分辨率卻由于受到光的波長衍射極限限制，只能達到um級別，因此也無法進行納米級別的研究?，F(xiàn)在，瑞宇科技推出的納米紅外光譜成像顯微鏡，利用基于原子力顯微鏡的技術(shù)（AFM-IR），這一技術(shù)將原子力顯微鏡的高空間分辨率、納米級定位和成像功能與紅外光譜的高化學敏感度有機地結(jié)合到一臺設備中，很好的解決了這一難題。

    這款納米紅外光譜成像顯微鏡，是一款功能強大的材料表征分析工具，使紅外光譜的空間分辨率突破了光學衍射極限，能夠達到10nm級別，從而在利用原子力顯微鏡（AFM）獲得微區(qū)形貌和表面物理特征的基礎上，進一步幫助用戶全面解析樣品表面納米級別的化學信息，開創(chuàng)了納米紅外化學解析的新領(lǐng)域。由于這款納米紅外儀器具備的高空間分辨率的紅外光譜采集和化學成分成像，被*為近十來年光譜領(lǐng)域較大的技術(shù)進步。

    瑞宇科技的納米紅外光譜成像顯微鏡，在不借助任何數(shù)據(jù)矯正模型的前提下就能獲得樣品紅外光譜，該紅外光譜與使用傳統(tǒng)紅外光譜儀（傅立葉紅外光譜儀、色散紅外光譜儀）獲得的樣品紅外光譜及其分子特征峰高度吻合，沒有出現(xiàn)吸收峰的任何偏移。這就使得用戶可以將使用這款納米紅外產(chǎn)品獲得的數(shù)據(jù)，與使用傳統(tǒng)紅外光譜儀建立的商用紅外光譜庫數(shù)據(jù)進行對比，從而實現(xiàn)快速準確的材料化學分析，這在科學研究和工業(yè)應用中都具有重大意義。

    瑞宇科技的納米紅外光譜成像顯微鏡，不是直接采集紅外光譜與樣品相互作用后的信號，而是通過原子力探針采集檢測區(qū)域吸收紅外激光后發(fā)生的熱形變，因此能夠?qū)⑿盘柕牟杉秶窒拊谔结樶樇馀c樣品接觸的狹窄區(qū)域，因此它的空間分辨率僅受針尖大小影響，從而達到10nm級別的分析成像。

    普通的原子力紅外技術(shù)是以探針來檢測樣品表面在紅外激光作用下的機械位移振動，但隨著樣品厚度的減小，這種位移量變得微乎其微，出了原子力顯微鏡的噪音極限。而瑞宇科技的納米紅外光譜成像顯微鏡采用特別的可調(diào)頻激光共振增強技術(shù)，能把微弱信號放大100倍以上，從而將靈敏度提高到單分子層，達到很高的光譜檢測靈敏度，這種靈敏度，對于檢測分析薄樣品如薄膜材料、單分子生物樣品、石墨烯等是非常有用的。

    瑞宇科技的納米紅外光譜成像顯微鏡可以實現(xiàn)紅外吸收成像功能，將紅外激光固定在用戶需要的波長并用原子力探針掃描需要檢測的樣品表面，*終得到每個位置的紅外吸收強度，從而獲得該波長下樣品區(qū)域的紅外吸收成像圖。

    舊有的原子力顯微鏡與光譜聯(lián)用技術(shù)的*問題在于光路的改變：在實驗過程中需要保證聚焦在探針針尖位置，但在調(diào)頻過程中，激光角度會隨著波長的變化而變化，從而改變焦點位置。瑞宇科技的納米紅外光譜成像顯微鏡采用全自動軟件控制和智能光路調(diào)整來優(yōu)化聚焦，避免了普通原子力紅外系統(tǒng)需要手動調(diào)節(jié)的不變和低效，保證了信號的穩(wěn)定性。

    瑞宇科技的納米紅外光譜成像顯微鏡是一款強大的可擴展原子力集成多系統(tǒng)，除了上述的原子力顯微成像、采集紅外吸收光譜、紅外吸收成像等功能外，它還可以外接多個模塊擴展，如納米熱分析、洛倫茨接觸共振力學分析、掃描熱力學分析、導電原子力分析等。用戶可選擇一次性集成，也可選擇有需要時加裝。

對半導體不同層的組分進行納米紅外測量，識別其成分組成，這是常規(guī)紅外光譜顯微鏡不能實現(xiàn)的

          可以對薄薄膜進行分析，這是對僅有20nm厚度的PMMA薄膜進行測量

在碳纖維-環(huán)氧樹脂復合材料上進行的納米紅外測量，顯示了復合材料界面上的化學組成變化

         納米紅外測量識別金屬盤上的有機物顆粒，該顆粒尺寸僅有100nmx200nmx28nm

礦物的表面形貌圖（通過原子力顯微鏡獲得）與紅外吸收光譜圖像對比，可以通過CH鍵的紅外吸收峰來確定烴的分布

調(diào)色劑顆粒是由多種化學成分組成的，納米紅外測量識別出了這些成分并在納米級別定位